Critical Dimension Measuring
nXD-1
고분해능 광학계
회절한계를 극복한 150 nm 분해능, 미세패턴 실시간 2D/3D 계측 솔루션
nXD-1은 기존 광학 구조의 본질적 측정 한계를 극복한 제 품입니다.
회절한계(Diffraction Limit)로 인해 5㎛ 이하의 CD 선폭은 특 수 장치가 필요한
전자현미경(SEM)으로만 가능했습니다. nXD-1은 회 절한계를 극복한 광학계와 알고리즘으로
100㎚의 광학분해능을 통해 1㎛의 선 폭을 정확하게 측정할 수 있습니다. 반도체 칩의 소형화와 높은 집적도로 인해 1㎛ CD 선폭을 측정해야 한다면 이 비파괴 광학구조를
통한 측정이 공정의 새로운 지표를 열어드릴 것 입니다. 또한 디스플레이 공정에서
펨토레이저를 활용하여 만들어진 미세선폭 측정이 필요하다면 공정의 안정성을 높여주고
정밀한 측정 이 가능한 nXD-1이 가장 적합합니다. 광학계와 전자 현미경의 경계에 있는 정밀한 측정에 대한 이슈들을 해소할 수 있는
솔루션으로 측정 시장에 새로운 패러다임을 열어드릴 것입니다.
회절한계(Diffraction Limit)로 인해 5㎛ 이하의 CD 선폭은 특 수 장치가 필요한
전자현미경(SEM)으로만 가능했습니다. nXD-1은 회 절한계를 극복한 광학계와 알고리즘으로
100㎚의 광학분해능을 통해 1㎛의 선 폭을 정확하게 측정할 수 있습니다. 반도체 칩의 소형화와 높은 집적도로 인해 1㎛ CD 선폭을 측정해야 한다면 이 비파괴 광학구조를
통한 측정이 공정의 새로운 지표를 열어드릴 것 입니다. 또한 디스플레이 공정에서
펨토레이저를 활용하여 만들어진 미세선폭 측정이 필요하다면 공정의 안정성을 높여주고
정밀한 측정 이 가능한 nXD-1이 가장 적합합니다. 광학계와 전자 현미경의 경계에 있는 정밀한 측정에 대한 이슈들을 해소할 수 있는
솔루션으로 측정 시장에 새로운 패러다임을 열어드릴 것입니다.
Key Features
· 1um 미세선폭 측정
· 빠른 측정 및 데이터 획득
· 높은 정밀도
· 높은 정밀도
· 간단한 측정 프로세스
· 손쉬운 사용자 인터페이스
· 설치 공간 최소화
· 손쉬운 사용자 인터페이스
· 설치 공간 최소화
Critical Dimension Measurment
전자현미경
nXD-1 (50x)
일반 현미경(50X)
nXD-1 (50x)
일반 현미경(50x)
Specifications
Latest News
| 측정모델 | 측정기술 | 테스트내용 | 측정데이터 |
|
WSI간섭계 대면적 측정 FOV 확대 적용 | Micro Bump Height 단층 박막 두께 측정 PCB 미세 패턴 가공 표면 거칠기 측정 센서 단차 측정 |
|
|
Free-Form Metrology
제품 곡면 각도에 따라 분할 검사도 가능함
|
렌즈, 유리 표면 검사 및 형상 측정
OLED 표면 검사 및 형상 측정
웨이퍼 표면 검사 및 형상 측정
|
|
|
투명, 반투명 제품의 실시간 두께 측정
Multi Ch. 적용 가능
|
웨이퍼(실리콘, 사파이어) 두께 측정
유리 및 필름 두께 측정
|
|
